辉光放电光谱（GD-OES）是一种用于固体材料快速成分深度剖析的表征技术。其利用惰性气体（通常为氩）在低压下辉光放电产生的等离子体，通过溅射逐层剥离样品表面，并同时激发被剥离的原子，通过测量其特征光谱强度进行定性和定量分析。GD-OES的核心优势在于能同时测定从氢到铀的所有元素，并实现从纳米到微米级的深度分辨率，分析速度快、线性范围宽，广泛应用于金属、陶瓷及涂层材料的成分与镀层分析。

1、样品尺寸：直径2cm左右，厚度0.5-2cm；粉末大于2g；

2、表面尽量光滑，GDOES 可以得到时间（S）-强度（V）曲线和深度（um）-百分含量（%）曲线; GDMS可半定量元素含量。

3、C、H、O元素不建议用该测试进行测量，如果需要，请提前联系项目经理沟通确认。

1、GD-OES技术的核心原理是什么？

其核心原理包含两个过程：

溅射剥离：氩等离子体中的正离子被电场加速后轰击样品（阴极）表面，通过物理作用（动量转移）逐层剥离样品原子，形成平整的 crater（溅射坑）。

激发与探测：被剥离的原子扩散到等离子体中，与高能电子、氩离子等发生碰撞而被激发，退激时发射出元素特征波长的光。光谱仪同步探测这些光谱线的强度，从而实现元素的定性和定量分析。

2、什么是溅射速率？为什么它很重要？

溅射速率是指单位时间内样品被剥离的深度（如nm/s）。它是将分析时间轴转换为深度轴的关键参数。通过测量已知厚度的标准样品，可以建立溅射速率曲线，从而对未知样品的深度进行精确校准。溅射速率受放电参数（电压、电流、压力）和样品基体性质影响。